高阶高速黄金TWV布局
开云app手机版下载官网安装SolsticeQQGoldProTM堆
金硫酸浴高速电镀对局部流向量敏感,原因是金复合离子扩散速度相对慢结果,你可能发现亚优电解流剖面可导致非异式沉降率跨长片沉浸式板块和喷泉板块系统必须使用极低电镀率来克服这一问题
开云app手机版下载官网安装专有休眠®GoldProTM反应器设计生成微博扩散层随机流体矢量并使用旋转盘电极物理为您提供最优条件支持高电压率和高阶覆盖并确保扩散层同实用一样薄也帮助确保流体运动无向结果是更高的吞吐量而不牺牲覆盖
高阶覆盖金通过TWV电镀
开云app手机版下载官网安装SolsticeGoldPro反应器自有设计能够生成随机流体矢量
应用
- 背面线程
- TWV电热地面线程
- 背面联系
- 键盘填充
- 多点
特征学
- 随机流体向量
- 可调整扩散器
- 解析氧控制
- 干接触低维护电镀轮子
- 自定义密封达标
- 连续过滤化学循环
- 可选碳过滤
- 列维特力与列维花泵
福利类
- 高电压率高一致性
- 极统一的字段剖面
- 最大化浴生
- 密封达标与现有集成
- 连续净化化学
- 精确一致流速控制
开云app手机版下载官网安装单行处理Solistice平台有8、4、3或2分机可定制配置,视应用需要而定
技术数据
| wifer大小 | 75-200毫米(可配置非标准尺寸,例如160毫米) |
| wafer宽度 | 150m至>6m |
| wafer素材 | slicson、GaAs、GaNsi、GaNsapphire、Saphire、透明子串等 |
| 流速率 | 10-60lpm |
| 排位率 | 最高150m/分钟 |
| 运算器内部一致性 | 3% |
| Wafer对Wafer一致性 | 1%(中值对平均值) |
| 阶梯覆盖 | 70-93%(依赖侧比) |
| 粗糙度 | 2k |
金硫酸浴高速电镀对局部流向量敏感,原因是金复合离子扩散速度相对慢结果,你可能发现亚优电解流剖面可导致非异式沉降率跨长片沉浸式板块和喷泉板块系统必须使用极低电镀率来克服这一问题
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