UBM和模式化金属湿Etch
开云app手机版下载官网安装使用Solstie®湿Etch系统
开云官网体育app下载安装苹果模式式金属蚀刻用于wifer级包装应用中的UBM分解,并用于电镀和光阻条处理后特征隔离UBM和Metic letch关键考量是交叉交换一致性、可重复性、下降或临界维值损失、拥有成本和吞吐量
开云app手机版下载官网安装Solstice平台提供世界级交叉均匀性,因为其防洪流喷雾和精密rpm控制端点检测标准模式金属拉特应用,以确保最小可能下降和CD损耗开云官网体育app下载安装苹果微薄处理技术提供行业领先电压率和一致性,以确保最优精度、控制性能和性能
应用
- wafer级打包
- 翻转芯片
特征学
- 高弹性
- 跨边划一
- 运行重复性
福利类
- 低成本拥有
- 高弹性
- 进程有效性
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